에스앤에스텍, FPD용 PSM 블랭크마스크 국내 최초 양산

 

 

 

 

에스앤에스텍, FPD용 PSM 블랭크마스크 국내 최초 양산

 

 

- 반도체용 PSM 블랭크마스크 기술 FPD에 적용 양산

 

- 고해상도 디스플레이 시장 대응

 

 

 

국내 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수 101490)은 국내 최초로 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공했다고 28일 밝혔다.

블랭크마스크란 반도체 및 평판디스플레이 (FPD : Flat Panel Display) 공정재료인 포토마스크의 원재료로서, 석영유리기판 위에 회로패턴이 형성 되기 전 차광막, 반사방지막, 감광막 등이 적층된 마스크를 말한다.

PSM(phase Shift Mask) 블랭크마스크는 반도체용 마스크에서 이미 적용되던 기술로 빛의 위상을180도 전환시켜 노광 시 손실되거나 변형되는 빛을 최대한 막아 미세 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 최첨단 마스크 기술이다.

에스앤에스텍은 이미 반도체용 PSM 블랭크마스크를 공급, 기술력을 인정 받아왔으나 그 동안 대면적 디스플레이용으로는 빛의 투과율 등 광학적 특성을 균일하게 유지하는 것이 어려워 양산에 어려움이 있었다.

그러나 이번에 FPD용 PSM 블랭크마스크 양산에 성공함으로써 LCD, OLED 등 디스플레이에 적용 시 전보다 뛰어난 고해상도 디스플레이 생산이 가능하다는 설명이다.

에스앤에스텍은 PSM 블랭크마스크를 국내 포토마스크 고객사에 납품해 우수한 품질을 인정 받은 만큼 앞으로 고해상도 디스플레이 시장에 어필 할 수 있을 것이라고 전망했다.

에스앤에스텍 관계자는 “그 동안의 다양한 블랭크마스크 기술 노하우를 살려 LCD, OLED 등 대형 고해상도 디스플레이용 공정재료 양산을 준비해왔다” 며 “고해상도 디스플레이 시장이 개화됨에 따라 FPD용 PSM 블랭크마스크가 회사의 매출증대에 기여 하는 새로운 성장 동력이 될 것”이라고 전했다.
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